多工能真空镀膜机

线性阵列复合镀膜机

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产品概述:

CJC1600-4/G型设备满足客户特定需求,集成CVD、PVD薄膜沉积与等离子刻蚀,,采用连续线性多功能薄膜沉积技术,能够在各类基底上沉积薄膜,独有的气路设计,特别适合柔性材料薄膜制备。

详细信息

 CJC1600-4/G型设备满足客户特定需求,集成CVD、PVD薄膜沉积与等离子刻蚀,,采用连续线性多功能薄膜沉积技术,能够在各类基底上沉积薄膜,独有的气路设计,特别适合柔性材料薄膜制备。
      
腔体:采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料(SUS304),内表面作抛光处理,外壁作喷砂处理。
      箱体尺寸1680X500X400mm,为四段式腔体(每个靶位和阳极为一段腔体;刻蚀区和沉积区有挡板机构,并可扩展为矩形插板阀结构),具体尺寸详细设计确定。

极限真空与压升率:≤5.0×105Pa(空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气

真空获得:高真空分子泵机组,带节流阀和毛细管路,选用国际一流品牌前级泵和涡轮分子泵,超高真空插板阀机构,所有前级阀均采用波纹管轴封,所有管路均为不锈钢。

真空测量:两路电阻规,1路电离规;对真空室和真空管道分别精确监控,带数据通讯,真空探头均采用防爆金属规,采用CF16和CF35连接方式,低漏率免维护。

工件架系统:工件架在腔体内直线运动,采用驱动电机 +直线模组+先进动密封方式。

沉积方式:可选配磁控溅射阴极、CVD沉积和一个孪生靶。

溅射电源:配置射频电源、中频电源和偏压电源。

线性阳极层离子源: 10KW专用离子源电源,功率范围可调;

充气系统:配置四路供气,使用气体为Ar,O2,N2,备用1路。

控制单元:西门子人机单元+西门子PLC控制。

辅助设备:制冷和压缩空气制备系统。