PVDorCVD真空镀膜机

卧式磁控溅射镀膜

浏览量:109

产品概述:

该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备,可实现共溅射,直流、射频兼容,磁控靶可单独轮流溅射,特别适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发,同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。

详细信息