PVD真空镀膜

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CJC系列磁控溅射镀膜机

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产品概述:

本设备具有自主知识产权的超高真空磁控溅射镀膜机,可实现共溅射,直流、射频兼容,磁控靶可单独轮流溅射,也可以实现共溅射。

详细信息
      本设备具有自主知识产权的超高真空磁控溅射镀膜机,可实现共溅射,直流、射频兼容,磁控靶可单独轮流溅射,也可以实现共溅射;满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要。特别适合于大专院校、科研院所和企业进行工艺研发、教学实验和新产品开发,可根据客户实际工艺需求进行定制。设备组成:真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、磁控溅射系统、离子轰击统、直流/射频电源、充气系统、在线测量系统、循环水系统及设备控制系统。 
根据客户实际需求,可增加或减少模块,达到设备有效利用,同时考虑设备扩展性和经济性。
可选配置:在线膜厚监控系统;垂直溅射与共溅射兼容;基片烘烤温度最高至800摄氏度,满足部分材料的真空原位退火或气氛保护退火的需要;蒸发镀膜与磁控溅射兼容;干式无油洁净真空系统;在线离子轰击清洗;自动挡板和手动挡板;直流电源射频电源的组合形式。
特别说明:根据用户不同的工况和工艺要求,公司愿与客户联合研发,共享知识产权,公司致力于工艺与设备的完美匹配。